3M™ Diamond Pad Conditioner
- 3M ID B5005035338
Detaljer
Höjdpunkter
- Optimized for extended pad and disk life
- Longer pad and disk life helps customers reduce the number of maintenance shutdowns, increasing their potential for lower cost of ownership
- Diamonds secured with both chemical and mechanical bonds for great retention
- Exclusive polymer substrate enhances corrosion resistance
- Customizable for conditioning aggressiveness
- Tight flatness specification for 3M disks enhances pad wear uniformity and pad planarity
- Compatible with all 3M™ CMP Pad Conditioner Coatings with minimal process changes
- For metal-sensitive processes, combine with 3M™ CMP Pad Conditioner Coatings
3M™ Diamond Pad Conditioners are highly engineered chemical mechanical planarization (CMP) pad conditioners that deliver reliable performance for critical semiconductor CMP applications.
For metal-sensitive processes, 3M™ CMP Pad Conditioner Coatings can be factory-applied to 3M™ Diamond Pad Conditioners. These micron-thin coatings are used in advanced and mature node processes sensitive to metal, or with the harsh slurries often incorporated into tungsten or silicon carbide processes. They require minimal process changes and can help reduce metal contamination by up to 99% while maintaining flatness, aggressiveness and polishing performance.
Specifikationer
Kontakta oss. Vi finns här för att hjälpa dig.
Mejla oss
Tack för din förfrågan. Informationen du lämnar på detta formulär kommer att användas för att svara på din förfrågan antingen via e-post eller telefon. Förfrågan besvaras av en 3M-representant alternativt av en av våra auktoriserade affärspartners, med vilka vi kan komma att dela din personliga information i enlighet med 3M:s sekretesspolicy.
Tack för att du kontaktar 3M
Vi har fått ditt meddelande och tittar nu på din förfrågan
En av våra representanter kommer att kontakta dig via telefon eller e-post
An error occurred.
